第1061章 什么是浸液系统（1 / 2）

这样的话，当然当不得真的，大家也权当一乐。不过，现场的气氛更加活跃，目的达到了。

待菜全部上齐，酒也开好后，食堂的工作人员离开，龙建华这才说道，“章总刚才开了一个头，把问题抛出来了，大家边吃边聊，把下一步的工作思路说说。”

章中牟笑道，“我刚才还没讲完，被他们这些要喝酒的家伙引偏了。这个芯片出来，意味着电子技术会跨出一大步，从电脑到手机到数字微波炉的产品，都会更新换代。”

林博士点头，“这一点是毋容置疑的。研究院那些研究所，接下来会有很多工作要做。有大量的产品要升级，甚至有全新的产品出现。”

黎赛普把嘴里的食物咽下，“这一点，研究院已经有很多思路，有的甚至已经动手，就等升级的芯片出现。各位等着吧，一个月内，准备将自己家里的家电升级换代。”

刘芷菲笑道，“身在重世集团，真的有些悲哀。经常出现新产品，看到技术水平有突破性，马上就想换。我们家的家电，都不知道换了几茬。”

章中牟哈哈大笑，“刘教授，你们家就应该带头消费。你们不但应该是忠诚客户，还应该是死忠粉。不过，这一次没必要马上换，因为这只是过渡性技术。林博士，龙博士，是不是？”

林博士点点头，“我们这次用的只是最简单的液体，是检验这个思路可不可行。这些东西都是龙博士制作出来的，她已经选择了一些方向，准备接下来继续试验。”

筠研点点头，“经过推算，下一步的波长会低于100nm。这样的话，芯片处理能力更强，产品会更加先进，功能更加强大。”

他们两个是这款光刻机设计的主要人员，他们两人讲话，其他人都仔细听着。

她继续说道，“这个进程是综合性很强的。这次能制作出这种芯片，得益于配套技术已经成熟，比如ArF 准分子激光、光刻胶、刻蚀机等能满足要求；如果再短，这些配套产品不一定能满足，最明显就是刻蚀系统、对准系统对于精度控制要求更高。”

“我们的光刻机，下一步需要在支持基片的尺寸范围、分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等进行全方位升级。”

“这些性能指标中，只有光源波长和我们没关系，其它都是我们光刻机研究所的研究内容。”

“我们都亲身经历了这次制作157nm，也发现很多问题。这次的有些改造能满足157nm的，但肯定不能满足更低波长的，所以我们下一步的任务很艰巨。”

刘芷菲偏头在龙建华耳边轻声说，“筠研张嘴就是一套套的专业名词，显得高深莫测。”

龙建华轻轻一笑，“你跑到人家专业团队里来，能听懂几个就很不错了。”

她轻哼一声，又坐正边吃边听各人的发言……

157nm芯片的推出，虽然无论研究院还是集团都没对外宣传，但还是有小道消息传出，马上引发业界震惊。

因为目前采用都是ArF 准分子激光，其波长是193 nm，大家在这个阶段停留的时间已经很久了；忽然之间出现157nm，等于突破了这一关口，意味着相关技术都取得了突破。