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光刻机，被誉为“工业皇冠上的明珠”。 后世一台先进的euv光刻机更是能卖到4亿美元左右，比一架最贵的正常的波音飞机都贵。 不过现在这玩意是先进，但远达不到那种程度。 这就是一个光刻机群魔乱舞，野蛮生长的时代，一家肯投入研发的企业随时都可能弯道超车。 出货量少，研究成本高昂这都是现在这个年份没有多少企业愿意在这上面投入的原因。 光刻机，顾名思义就是用光来雕刻，光就是一切的基础。 为什么用光刻？因为它快，对于二十四小时不停运转的芯片厂来说，时间就是金钱，速度决定产量。 而在我们所处的宇宙中光是速度的极限，光学被大量研究和使用。 那光是如何被驾驭刻成芯片的呢？答案是光掩膜，光刻机和光刻胶。 光掩膜就是集成电路的图纸，光刻机就如同一台打印机一样发光把光掩膜上的图形投射在硅片上，光刻胶则是能把光影化为现实的一种胶体。 光刻胶有正胶和反胶之分。 以正胶为例，它是一种见光死的材料。 在暗中坚挺，但只要被特定波长的光照射就会疲软，继而能被溶解消除。 负胶则正好相反，利用光刻胶的这种光敏性，就可以利用光来雕刻芯片。 举个简单的例子。 我们先在硅片上涂抹一层光刻胶，在用光线通过设计好的光掩膜照射在光刻胶上，这部分的胶体就会疲软随即被溶液洗掉，而剩下的坚挺的光刻胶就成了保护膜。 接着只要用能腐蚀硅的溶剂把没有光刻胶保护的区域腐蚀掉一层，最后在把光刻胶保护膜清除掉，我们就在同一时间里完成了大量深坑的统一雕刻工作。 这种对硅片定向做减法的工作就是芯片生产的第一步刻蚀，而反响做加法的工序就是沉积，狭义上可以说光刻刻的不是硅片而是光刻胶。 除此之外为了给半导体硅赋予电特性，还要在特定区域做离子注入，这部分也需要光刻。 正因为每一次刻蚀，沉积和离子注入都需要光刻为前提，所以在芯片制造之中光刻是根基，也是占据整个制作流程工时和成本环节最多的，也是用电量大的原因。 在芯片的实际生产中至少要做7个步骤两次烘焙，首先是硅片清洁和表面处理。 光刻对于清洁度的要求远远超过最先进的手术室，所以在光刻前先要给硅片洗个澡，先湿法清洗在用去离子水清洗。 第二步是旋转涂胶，把光刻胶滴在硅片中央，通过硅片的高速转动把光刻胶摊开，再以较慢的速度旋转把胶体厚度稳定，有点类似于摊煎饼。 这个过程大部分的光刻胶都会被甩出去浪费掉，只留下一层均匀的胶体相当于给硅片贴了一个膜。 接下来就是第一次烘焙，也叫做前烘。 目的是减少光刻胶中溶剂含量让其更加坚固浓稠，提高与硅片附着的稳定性。 前烘完成后，光刻机登场对硅片对准与曝光。 硅片在光刻机出来后还要进行一次烘焙，也就是后烘。 目的是通过加热让光刻胶中的光化学反应充分完成，可以弥补曝光强度的问题。 第六步就是显影和冲洗，基本是用去离子水完成。 最后就是检查和测量。 说实话罗念中对于这些是一窍不通，就算是张如京已经简便的的介绍这个过程了，还是一知半解大概能听懂的样子。 看着罗念中时常皱眉，张如京也不在讲解光刻过程。 “在光刻机里最重要的就是镜片和光源。 佳能此前虽然是做相机镜头的，在精密测量部分远不能和尼康还有蔡司相比。 不过它们有光学基础，在我们资金的投入下已经完成了突破”。 这点罗念中倒是知道。在1976年的的时候岛国通产省就制定了一个vlsi计划，就是为了推动产业升级。 光刻机也是一部分，是1978年才开始准备实行的项目。 本来通产省是让尼康和佳能分别仿制高端和低端的光刻机，可是那个时候佳能和富士财团正在和罗念中谈合作的事宜，这件事被罗念中强行叫停了。 佳能对于这个现在还不怎么赚钱的市场也不看好，也就拒绝了通产省算是对罗念中表达了一番诚意。 就是现在远东半导体研究的光刻机很大一部分都是来自于佳能十年前的技术累计。 见罗念中不说话，张如京犹豫了一下说道“我们有没有可能整体收购了佳能？” 罗念中惊讶的看着张如京，不知道他为什么要这么说，现在远东集团手里有佳能267的股份，是佳能最大的股东，完全不用担心佳能卡脖子。 “理由”。 张如京这么说一定有他的道理，罗念中没有着急否决。 “我们这次为了突破镜头技术向佳能砸了将近两百万美元，他们现在并没有高端镜头的需求却要分享我们胜利的果实。 以后这样的情况不会少，投入的资金也会越来越多。 最好的办法就是用订单倒逼他们投入资金研发或者我们成立自己的光学部门。 前者现在还不可能，我们不可能给他们太多的订单，毕竟每年的需求体量在这里摆着。 至于成立光学部门我更倾向于彻底拿下佳能，这会比我们从无到有省下很多时间”。 张如京说的有道理，现在每年光刻机的需求量是多少？ 前年是42台，去年才37台，就算手机行业爆发增加了一部分芯片需求这个量短时间内也不会超过百台”。 现在可不是40年后，是个工业产品基本都有芯片的需求，就算是那个年代每年光刻机的出货量也就四百台左右。 所以哪怕远东集团的光刻机垄断了市场，这个订单量佳能都要考虑一下要不要跟进，要不然当初也不会为了罗念中果断拒绝了通产省产业升级的计划。 那么成立一个光学部门或者收购一家公司就是最佳的选择了。 而收购公司，在蔡司，尼康，佳能这三家里，只有佳能现在这个阶段有这个可能。 想到这里罗念中摇了摇头说道“虽然咱们是佳能大股东，但是董事会上咱们并不占优势，他们也不会同意”。 张如京显然有不同意见。 “我不这么想，如果把这个家伙从远东半导体拆分出去呢？如果再给对方一些远东芯片的股份，我想这足以打破他们的联盟了”。说着张如京指了指后面的光刻机。 “你是说换股？” “没错，利益共享吗。 也是给彼此都留出一条后路出来，毕竟谁也不能肯定自己永远不被市场淘汰不是？” 这倒是一个办法，其实罗念中还可以等，等97年的金融危机。 不过那个时候佳能的市值和现在也不会同日而语了，再加上时间成本等更不合适。 “等正式测试的时候邀请佳能的人过来看看再说吧”。罗念中这算是赞成了张如京的方案。 张如京笑着点了点头略过了这个话题，继续介绍到。 “除了镜头，最重要的就是光源了，这也是我们重点攻克的。 不过你提出来的深紫外光源还在研究还没有结果，倒是让我们发现了比现在h-le光源更先进的i-le光源，波长进一步的缩短了，我敢说这是现在最先进的光源”。 i-le光源和现在其他最先进光刻机上用的h-le光源都属于汞灯光源，通过汞灯产生紫外光源也就是uv。 我们总听到的euv，duv中的uv就是紫外的意思。 罗念中让他们研究的深紫外或者说极紫外就是euv 没有研究出euv罗念中也不遗憾，因为它通过近段时间的了解发现就算是研究出来了也不一定有相匹配的光刻胶，还是不能用。 罗念中只需要让远东半导体的技术团队走在正确的道路上，不走弯路就行。 就像阿斯麦的euv，都知道那是最先进的，可是euv在80年代就被岛国提出来了。 至于为什么被抛弃？就是因为当时的其他配套跟不上，相差太多，被认为根本不可能实现。 迫不及待的赶来，了解了最新的研发情况，罗念中也打算离开了。 他在这里并不会给光刻机的研究带来什么帮助，相反还需要有人陪同更耽误时间。 在这一点上罗念中看的很明白，所以远东集团所有科研人员对于这么一个不会对研究指手画脚，只会偶尔提出建议的老板很称赞。 称他为最懂技术的老板，也不知道是赞赏还是讽刺。 “一个月没问题吧？可以的话就把测试定在一个月后吧”罗念中询问着张如京的意见。 “没问题”张如京很自信的点头肯定道。 “我很期待到时候它的表现”。 “放心吧，一定会震惊所有人的，就像我们远东集团的其他产品一样”。
